这周，上海会举办国际半导体展览会，这是全球最具影响力的半导体盛宴之一，覆盖芯片设计、制造、封测、设备、材料、光伏、显示等全产业链。如今，在中美科技战的氛围下，国产化力量备受关注。这一次，国内头部的半导体制造设备与材料厂商都会参展，其中，有一家新公司被大家伙格外关注，谁呢？来自深圳的“新凯来”，这次是其首次正式在国内公开亮相。
去年5月，外媒称，华为与一家名为“新凯来”的半导体设备厂商，为一种技术复杂度低，但能有效制造先进芯片的方法，申请了专利。这种方案在没有极紫外光的支持下，通过多重曝光，尝试生产5nm芯片。
抛开各种小道消息，从公开渠道看，这家公司成立于2021年，当时正值美国对华为开始打压。这家公司的大股东是深圳市深芯恒科技投资有限公司，而深芯恒的大股东，是深圳市重大产业投资集团有限公司，再往上追溯，则是深圳国资委。
龙科多还注意到，深圳重大产业投资集团董事长，是国家集成电路产业投资基金二期的监事，也是中芯国际深圳公司的董事。由此可见，新凯来的产业背景，相当深厚。
不过，新凯莱这几年非常低调。媒体报道很少，该公司官网也非常简洁，在“半导体制造”这一栏，只是列举了四种技术普通的设备，都是IGBT芯片使用的贴片机、测试机。公司的“新闻资讯”页面，直接是空白页。网站也没有透露公司高级管理人员任何信息。包括该公司的公众号，从创立至今，只发布过一篇文章，内容是：即将参展本次的上海国际半导体展览会。
经外媒一通报道，想必，大家也都关心，新凯来与华为，是啥关系？从调研的资料看，双方应该有较深的技术合作。像前面提到，在没有极紫外光的支持，尝试研制5nm芯片技术，准确来说是一种叫做“自对准多重图案化（SAQP）”的技术。
从技术角色猜测，有的参与方提供技术、人员支持，有的参与方负责整机开发，然后将搞出来的整机，放到工厂里跑，进行调教、验证。如果产品稳定、可靠，然后进入批量生产阶段。
我们来具体聊聊这种技术，“自对准多重图案化”技术本身还是相当有挑战性的。过去，英特尔为了避免依赖光刻机，在2019至2021年的第一代10nm制程上，也做过同样的方式，但最后放弃了，主要卡在良率上。
对当前的中国半导体产业来说，良率排在第二位，首先是要解决0和1的问题。既然多重曝光是可行方案，也被验证过，证明可以在更短的时间内，尽快进行先进芯片的生产，那么，虽然成本高一些，但能解决问题。
新凯来目前参与制造的DUV原型机，大概率还是干式的DUV，能在单次曝光下，达到45nm制程。与此同时，新凯来这样的新公司，在EUV光刻机研究上，也肯定在同步进行，虽然难度高，但国内多了一份协同攻关的力量。
举个例子，EUV光刻机对光源要求很高，像ASML的光源，使用LPP技术，简单来说，用高能激光照射锡液滴靶，注入的能量会使液滴，瞬间变成一团远超太阳表面温度的等离子体，并辐射极紫外光。而这项技术，已经被哈工大实现，而且为了避开专利风险，哈工大还对技术进行了改进，搞出了LDP技术，方便相关公司推进研发。
最后简单总结下，国产光刻机的研发，目前看，是需要平衡市场需求与技术攻关难度。首先，解决有和无的问题，例如，通过改进多重曝光技术，拿下更容易攻克的DUV，缓解国内先进制程的产能问题。然后，再是从长远角度出发，从第一性原理出发，坚持攻克EUV技术，直到彻底解决先进芯片生产难题。
这一次，新凯来光明正大的公开露面，证明其已经积累不错实力和底气。虽然还没有实力直接与ASML进行PK，但是，保障国产先进芯片的极限生存，守护住底线，这份能力应该是绰绰有余了。未来，我们可以期待更多的好消息。
