西方心碎了！哈工大传出“炸裂性”消息，美媒：还怎么制裁？

众所周知，中国早已经不是百年前积弱不堪、任人欺负的中国，现在的我们要技术有技术，要人才有人才。得益于此，近几年来中国在半导体、人工智能、5G通讯等前沿科技领域都取得了突破。然而，我国高科技产业的强势崛起，触动了西方科技巨头的利益，为了保住自家企业发展的优势空间，以美国为首的西方国家开始对中企进行一轮又一轮的打压。

特别是在半导体领域，西方国家先是签订了《瓦森纳协定》，禁止一切高端技术和设备流入中国市场，后来老美又擅自修改了芯片规则，要求ASML停止向中企提供EUV光刻机，最后老美拉上日、荷谋划了三方协议，将DUV光刻机也加入限制范围。很明显，西方就是要把中国半导体技术限制在14nm阶段。

然而，随着一条“炸裂性”的消息传来，似乎意味着中国芯打出了一记漂亮的反击。因为就在近期，哈工大成功研发出可以实现DPP-EUV光源的技术——电能转化等离子线路，这也意味着我国攻克了制造EUV光刻机最难的环节。

让西方心碎的是，如果再加上哈工大之前研发出来的超高精密高速激光干涉仪，那么国产光刻机有望实现7nm工艺。要知道，EUV光源技术一直都被荷兰ASML和LCC EUV联盟所垄断，而如今中国掌握了这项技术，也就意味着中国市场很快就能生产出自己的高端光刻机。对此，美媒纷纷表示，未来我们还怎么限制大陆半导体？

不可否认，老美搞“脱钩断链”确实让中国半导体的发展滞后于西方。如果当初中芯国际能如愿拿到ASML的EUV光刻机，那么中国芯恐怕早已经实现了7nm，甚至5nm芯片的量产。但也正是因为老美的步步紧逼，才让“中国制造”异军突起，而EUV光刻机壁垒的“缺口”或将是压死拜登团队最后的一根稻草。

正所谓“春江水暖鸭先知”，荷兰ASML总裁早已洞察了一切，要不然其也不会光速变脸。之前我们要研发光刻机的时候，温宁克嘲讽我们，就算把图纸给中国，我们也造不出先进光刻机。当老美限制ASML向华出货光刻机的时候，温宁克表示，称中国研发光刻机设备合情合理。而在看到哈工大突破EUV光刻机光源技术后，温宁克马上发出警告，称大陆试图自主研发光刻机，是在破坏全球半导体产业链。

其实，明眼人都能看出来，温宁克这一前一后的“胡言乱语”，无非就是想劝我们放弃自主研发之路。但可惜的是，中国早就不相信什么“造不如买”的老观念了，自主研发才是中国必须要实现的目标。

事实已经证明，无论老美等西方再怎么对中企进行制裁和打压，也无法阻止东方大国的崛起，5G技术如此，盾构机如此，空间站如此，大飞机如此，现在EUV光刻机也如此。当然，我们也不能放松警惕。对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。

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