谈到市场规模,2023年的中国光刻机市场已经达到了168亿元的庞大体量。随着国内半导体产业的持续高速发展,这个市场规模仍在不断扩张之中。这无疑表明,中国对于光刻机的需求依然旺盛而迫切。
在光刻机的研发进展上,得益于众多资本的涌入和国家政策的鼎力支持,国产光刻机正在迎来一个快速发展的新阶段。但我们也要清醒地认识到,由于历史原因造成的技术积累不足,我们仍需加快步伐,迎头赶上。目前,上海微电子已经成功实现了90nm工艺光刻机的量产,并正在全力攻克28nm光刻机的技术难关。此外,中国还公开了一款采用氟化氩技术的光刻机,其分辨率低于65nm,套刻精度小于8nm,这一成果有望在28nm的部分工艺中得到应用。这些进展无疑都是国产光刻机在自主创新道路上的重要里程碑。