作为荷兰科技产业的“支柱”，ASML之所以能成为全球半导体产业链不可或缺的一环，究其根本，它是目前唯一能生产EUV光刻机的厂商，无论台积电或者三星，这些顶尖芯片代工厂商基本都离不开ASML的设备支持。
芯片被誉为工业时代的“粮食”，按照正常逻辑，在智能化愈发普及的当下，身处供应链上游的ASML，本该有着更加光明的前景。
然而，受美芯规则影响，产线上使用了大量美国配件与技术的ASML，却深陷无法出货的漩涡，三方协议实施后，很多中高端DUV光刻机都被纳入了“管控清单”，这导致ASML一度面临彻底失去大陆市场的危机。
更让其感到扎心的是，就连研发的最先进的High-NA EUV光刻机，似乎也没有如预期那般受欢迎。
都知道，台积电是ASML的大客户，可对于High-NA EUV光刻机的技术，台积电的看法却并不乐观，且还认为该设备定价过高。直至英特尔率先向ASML采购之后，台积电才象征性的订了两台，只不过，即便如此，台积电在短时间内也不太可能把新设备投入到正式运营之中。
而就在近期，韩国半导体巨头SK海力士也突然宣布，于2019年组建的EUV TF研发团队原地解散，另外，它还叫停了向日本供应商采购EUV轨道的计划。可以说，SK海力士基本告别了EUV光刻机。
SK海力士和台积电的行动传递出了一个信号，那就是High-NA EUV光刻机在技术空间上，并不符合当芯片发展趋势。同时这也意味着，在近几年时间里，ASML最新研发的EUV，恐怕很难为其创造以往的辉煌。
最关键的是，在全球化“已死”的情况下，很多地区为摆脱美芯规则的“束缚”，都开始大力发展本土半导体，研发自主可控的光刻机，或者通过创新技术绕开EUV光设备，以实现更低成本更可靠的芯片制造。
前不久，据芯智讯报道，俄罗斯科学家们成功研发出了波长为11.2nm的镭射光源EUV光刻机，并且自行开发了配套的曝光生态系统。据悉，该设备可将分辨率提升约20%，成本更低、更加环保，且精细度更高。俄罗斯半导体产业的此次突破，可以说为全球芯片产业的发展提供了新的方向。
不仅如此，在经历“卡脖子”之痛后，我国也在集中优势力量攻关光刻机这道技术壁垒。经过数年的沉淀，国内在成熟光刻机方面已实现了规模量产，如2024年工信部公布的氟化氩光刻机设备，可用于28nm及以下芯片的制造。另外，哈工大等高校也陆续突破了光源等EUV核心技术。
更让人感到振奋的是，在国内没有EUV等中高端光刻机的情况下，华为通过小芯片和超线程技术，与友商携手实现了先进芯片的生产。在搭载麒麟9010芯片的Mate70系列发布之后，华为也公开表示，称所有芯片都已具备国产能力，这标志着国内至少已搭建出了自主可控的7nm芯片供应链体系。
对此，ASML虽然声称华为芯片进步确实很大，可话锋一转，又指出我们距离台积电和三星还有不小的差距，而这个差距主要就是集中在EUV光刻机设备上。可事实真的如此吗？
答案显然是否定的，原因很简单，荷兰ASML是目前唯一能生产EUV的厂商，而该设备又是所有光刻机型号中利润最大的设备，它若承认即便不使用EUV光刻机也能够制造先进芯片，以后谁还会花大价钱去采购，岂不是砸了自己的“饭碗”？
可以预见，如果荷兰接下来仍对美方制定的芯片规则言听计从、盲目的打压大陆半导体，那么ASML未来的处境必将更加艰难，现如今，其新研发的High-NA EUV光刻机的销量不及预期，而中高端DUV光刻机在中国市场又面临着被替代的危机，稍有不慎，很可能就会满盘皆输！
