金融界2024年11月13日消息，国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种避免金属间电化学腐蚀效应的钨/氮化钛蚀刻液”的专利，公开号CN118931541A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明涉及一种避免金属间电化学腐蚀效应的钨氮化钛蚀刻液，所述蚀刻液包括按质量百分比计的如下组分：双氧水10%-30%，碱1-5%，表面活性剂1%-5%、电化学腐蚀抑制剂0.1%-2%，余量为去离子水。电化学腐蚀抑制剂可以显著降低钨层与钛/氮化钛层之间的电化学腐蚀反应电位，抑制钨层与钛/氮化钛层之间的的腐蚀电流，使两金属层之间存在的电化学腐蚀减弱。同时表面活性剂可以调节蚀刻液与不同膜层之间的浸润、接触性。确保各膜层被完全蚀刻，避免出现金属拖尾等现象，影响后续的制程。本发明中可避免金属间电化学腐蚀效应的钨/氮化钛蚀刻液较普通蚀刻液可显著降低金属钨层与钛/氮化钛层间的电化学腐蚀效应，同时也能维持稳定的蚀刻速率和寿命。
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