金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司申请一项名为“一种用于真空环境的金属密封结构”的专利，公开号CN118979960A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明属于金属密封技术领域，具体地说是一种用于真空环境的金属密封结构，包括金属密封垫，金属密封垫位于待密封的下法兰与上法兰之间，下法兰及上法兰朝向金属密封垫的表面分别加工有密封面，金属密封垫的一面设有用于起到真空密封作用的凸起与凸起接触的下法兰的密封面或上法兰的密封面上开设有凹槽，凸起在安装及密封时位于凹槽内；金属密封垫具有硬金属材料的基底，在基底表面镀有软金属层。本发明的金属密封垫在使用时被挤压，硬金属作为基底能够在反复使用过程中提供足够的接触应力来实现真空密封；金属密封垫上设置了用于起到密封作用的凸起，更换时也更方便。
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