金融界2024年12月5日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“阵列基板、显示面板”的专利，公开号CN119069484A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本申请的实施例公开了一种阵列基板、显示面板，该阵列基板包括衬底、位于衬底上方的第一走线和第二走线，第一走线与第二走线在膜厚方向上存在交叠区域；其中，在交叠区域，第一走线与第二走线之间的垂直距离大于3微米；通过增大了第一走线与第二走线在交叠区域内的垂直间距，改善了因静电放电击穿导致的良率损失。
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