金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种高台阶晶圆旋涂光刻胶的方法及其应用”的专利，公开号CN119105238A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高台阶晶圆旋涂光刻胶的方法及其应用，包括：步骤一：在形成有高台阶的晶圆表面旋涂一层高粘度抗反射涂层材料，形成第一抗反射涂层；步骤二：在所述第一抗反射涂层表面旋涂一层低粘度抗反射涂层材料，形成第二抗反射涂层；步骤三：在所述第二抗反射涂层上旋涂低粘度光刻胶材料。本发明通过使用高粘度抗反射涂层材料填充晶圆表面，降低需要涂光刻胶的台阶高度，并利用低粘度抗反射涂层材料兼容低粘度DUV光刻胶，从而解决低粘度光刻胶在高台阶晶圆的涂布问题。
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