金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，上海镭利电子材料有限公司申请一项名为“一种光刻胶组合物及制备方法和应用”的专利，公开号CN119105233A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本发明涉及光刻胶组合物技术领域，具体涉及一种光刻胶组合物及制备方法和应用。所述光刻胶组合物，其制备原料包括：(A)光引发多功能团树脂聚合物、(B)阳离子光引发剂、(C)成膜剂、(D)含硅助剂、(E)含氟化合物；所述光引发多功能团树脂聚合物包含多官能团环氧树脂和含羟基寡聚物。所述光刻胶组合物在光刻技术领域中进行应用，应用到软/硬性基板上制备永久性光致抗蚀图案。可以降低紫外光曝光能量，获得较好的解析性及附著效果。
本文源自：金融界
