金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“失效分析样品处理方法以及失效分析方法”的专利，公开号CN119108380A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明提供一种失效分析样品处理方法以及失效分析方法，失效分析样品处理方法包括：将测试样品去层至第一金属层，保留完整的测试结构；将测试样品接地，导走第一金属层表面的电荷；对测试样品的失效位置进行预定位；将测试样品研磨至第二金属层的上方，并在测试样品研磨后的表面镀上导电层；定位出失效位置，并形成标记。如此配置，通过将测试样品研磨至第二金属层，并在测试样品的表面镀上一层导电层，能够及时导走测试样品表面积累的电荷，避免金属线因电荷积累而发生烧毁现象从而能够保留失效位置的原始形貌，能够更精准地找到失效原因；且导电层不影响SEM机台和TEM机台的观测，提升了失效分析的成功率，降低了失效分析的成本。
本文源自：金融界
