应用材料公司取得形成磁隧道结的顶部接触的方法专利

金融界 2024-12-14 20:47:49

金融界2024年12月14日消息,国家知识产权局信息显示,应用材料公司取得一项名为“形成磁隧道结的顶部接触的方法”的专利,授权公告号CN112740431B,申请日期为2019年8月。

本文源自:金融界

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