金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司申请一项名为“掩模板缺陷检测方法、装置及设备”的专利，公开号CN119126481A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本申请提供一种掩模板缺陷检测方法、装置及设备，该方法包括：获取掩模板的至少一个初始缺陷检测信息及掩模板的设计版图信息；基于设计版图信息对初始缺陷检测信息进行二次缺陷检测，得到掩模板的二次缺陷检测信息；利用光刻光学模型对所述二次缺陷检测信息进行光刻模拟仿真，得到光刻仿真分析结果；基于光刻仿真分析结果以及二次缺陷检测信息，获得掩模板的缺陷分类信息。如此，得到更准确的缺陷分类信息，提高了缺陷分类的精度以及缺陷分类的准确性。
本文源自：金融界
