金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，苏州建高远微电子设备科技有限公司申请一项名为“一种双面卷对卷激光直写光刻机”的专利，公开号CN119126503A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种双面卷对卷激光直写光刻机，属于光刻机设备领域。一种双面卷对卷激光直写光刻机，包括曝光平台，所述曝光平台的两侧分别设置有出料平台和收料平台，所述出料平台和收料平台上均设置有收放组件，所述出料平台和收料平台上均设置有对卷材张紧调节的张紧组件，对称设置的CCD对位相机组和激光读写器；本发明通过设置对称分布的CCD对位相机组和激光读写器，可以对需曝光的材料进行同步曝光读写操作，同时在曝光操作时，通过纠偏辊对传输的材料进行自动纠偏居中操作，使得输送的卷材得到纠正避免出现跑偏的现象发生，且配合夹料板多次限位，提高双面曝光读写的精准度，有效提高装置的工作效率。
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