金融界2024年12月21日消息，国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备”的专利，公开号CN119150775A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种掩模版图优化方法、程序产品、存储介质及设备；所述方法包括：提供中间掩模版图；检测中间掩模版图的缺陷以生成数据库文件，数据库文件中包含与每一所检测缺陷对应的缺陷数据组；通过第一图形用户界面对数据库文件包含的缺陷数据组进行实时显示；接收在第一图形用户界面中对缺陷数据组的选择指令，将所选择的缺陷数据组记录到第二图形用户界面并实时显示；继续进行光学邻近效应的迭代修正，迭代过程中的每一轮修正结束后，根据新修正的中间掩模版图更新数据库文件。本方法为工作人员提供对之前定位过的缺陷信息进行快速重定位的功能，简化了用户在掩模版图修正过程中的操作步骤，提高了工作效率。
本文源自：金融界
