金融界2024年12月25日消息，国家知识产权局信息显示，上海博纳微电子设备有限公司取得一项名为“一种高压清洗装置”的专利，授权公告号CN222198074U，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本实用新型涉及电子半导体技术领域，且公开了一种高压清洗装置，包括清洗壳体和支撑部件，支撑部件设置在清洗壳体的顶部；所述清洗壳体的顶部固定安装有清洗管道，清洗管道的另一端固定安装有过滤器，过滤器的左侧连接有旋转摆臂，旋转摆臂的左侧连接有泄压阀，所述旋转摆臂和泄压阀之间清洗管道的顶部安装有高压喷嘴；支撑部件包括固定支架，固定支架固定安装在旋转摆臂的外表面。该高压清洗装置，通过增加高压泵出口处的压力，减少氮气使用量，便于长期以后节约成本，同时高压清洗对后面的药液清洗过程产生少量的颗粒物，对回收的药液性质减少，提高药液使用率，且高压清洗提升产品的清洗效率，提升50％以上效率。
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