金融界2024年12月26日消息，国家知识产权局信息显示，横店集团东磁股份有限公司申请一项名为“石墨舟的处理方法、石墨舟、电池片预成品的沉积方法”的专利，公开号CN119177433A，申请日期为2023年6月。
专利摘要显示，本申请涉及一种石墨舟的处理方法、石墨舟、电池片预成品的沉积方法。该石墨舟的处理方法包括：对石墨舟进行升温处理；在升温后的石墨舟表面沉积二氧化硅薄膜。上述石墨舟的处理方法可以在石墨舟上沉积二氧化硅薄膜，二氧化硅薄膜具有比氮化硅薄膜更优异的热稳定性、绝缘性能以及化学稳定性，同时也能更加有效地降低石墨舟受到空气中的杂质和水分的影响。通过上述石墨舟的处理方法处理后，能够在进行加工时使太阳电池片不与石墨舟直接接触，能够减少生产过程中在电池片表面出现石墨舟舟框污染的问题，提高电池片的效率及良率。
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