金融界2025年1月2日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司取得一项名为“介质窗及半导体工艺腔室”的专利，授权公告号CN222233566U，申请日期为2023年7月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种介质窗及半导体工艺腔室，涉及半导体工艺技术领域，其中，所述介质窗应用于半导体工艺腔室，所述介质窗的底面具有凹面区，所述凹面区的表面朝靠近所述介质窗的顶面的方向凹陷，所述凹面区位于所述介质窗的底面靠中心的区域。
本文源自：金融界
北方华创取得介质窗及半导体工艺腔室专利，提升半导体工艺技术
金融界
2025-01-02 11:11:15
0
阅读：1
