应用材料公司取得在低温下的选择性硅锗外延的方法专利

金融界 2025-01-08 09:11:58

金融界2025年1月8日消息,国家知识产权局信息显示,应用材料公司取得一项名为“在低温下的选择性硅锗外延的方法”的专利,授权公告号CN110783171B,申请日期为2019年7月。

本文源自:金融界

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