浙江创芯申请晶圆涂胶专利,提高晶圆表面光刻胶厚度均匀性

金融界 2025-01-18 11:14:00

金融界2025年1月18日消息,国家知识产权局信息显示,浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“晶圆涂胶方法以及晶圆涂胶装置”的专利,公开号CN119310798A,申请日期为2024年10月。

专利摘要显示,一种晶圆涂胶方法以及晶圆涂胶装置,其中方法包括:提供待处理晶圆;沿待处理晶圆的半径方向,将待处理晶圆表面划分为至少两个区域;在各区域上设置对应的出胶口,其中,各出胶口所对应的光刻胶的出胶量不同;驱动待处理晶圆旋转,通过相应出胶口将不同出胶量的光刻胶旋涂至对应的区域表面。根据待处理晶圆旋转的线速度不同,将待处理晶圆表面划分为至少两个区域,后续可针对不同区域的线速度不同的特点,进行旋转涂胶,保证了不同区域上的光刻胶厚度的均匀性;且本发明在不同区域上设置不同的出胶口,且不同区域上的出胶口对应的出胶量不同,有效减少旋转的线速度对光刻胶的厚度的影响,提高晶圆表面的光刻胶厚度的均匀性。

天眼查资料显示,浙江创芯集成电路有限公司,成立于2020年,位于杭州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币,实缴资本134000万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目246次,知识产权方面有商标信息12条,专利信息173条,此外企业还拥有行政许可4个。

本文源自:金融界

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