金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海六晶科技股份有限公司申请一项名为“屏蔽复合膜及制备方法和应用、一维滤线栅和X射线设备”的专利，公开号CN119314717A，申请日期为2021年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种屏蔽复合膜及制备方法和应用、一维滤线栅和X射线设备，涉及射线屏蔽技术领域。该屏蔽复合膜包括屏蔽层和基体层，所述屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上；其中，所述屏蔽层采用屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3‑13g/cm3；所述基体层的厚度为0.05‑10mm；所述屏蔽层的厚度为0.01‑3mm。本发明提供的屏蔽复合膜可以实现对X射线或γ射线的选择性透过与屏蔽，具有良好的应用前景。同时该屏蔽复合膜的制备方法操作简单，工艺稳定。鉴于上述屏蔽复合膜所具有的优势，使其在屏蔽X射线或γ射线领域具有良好的应用前景。
天眼查资料显示，上海六晶科技股份有限公司，成立于2006年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1137.0589万人民币，实缴资本1137.0589万人民币。通过天眼查大数据分析，上海六晶科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目1次，知识产权方面有商标信息3条，专利信息82条，此外企业还拥有行政许可23个。
本文源自：金融界
