金融界2025年1月22日消息，国家知识产权局信息显示，江苏维普光电科技有限公司申请一项名为“用于半导体掩膜检测缺陷的可视化展示方法”的专利，公开号CN119271834A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明
公开了一种用于半
导体掩膜检测缺陷
的可视化展示方
法，方法的步骤中
含有：对掩膜进行
缺陷检测，将缺陷
检测得到的缺陷位
置转为掩膜设计图
中对应的坐标，即
缺陷坐标；将掩膜
设计图的设计
database文件和得
到的缺陷坐标生成
一个GDS文件；在离线状态下采用EDA工具打开GDS文件，以同时
迭加显示database文件层对应的掩膜设计图和缺陷数据层对
应的缺陷；通过缺陷数据层中的缺陷坐标，在视窗中查看缺陷
坐标所在的缺陷在掩膜设计图中的定位，判断缺陷是否具有实
际的影响。通过该方法可以让检测确认人员发现半导体掩膜上
缺陷的全局位置，很好地判断当前缺陷是否实际对晶圆产生影
响，以提高产品良率和准确度。
天眼查资料显示，江苏维普光电科技有限公司，成立于2016年，位于常州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1131.2217万人民币，实缴资本1131.2217万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏维普光电科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目27次，知识产权方面有商标信息3条，专利信息38条，此外企业还拥有行政许可3个。
本文源自：金融界
