金融界2025年1月23日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司取得一项名为“一种等离子体处理设备”的专利，授权公告号CN222320176U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供了一种等离子体处理设备，属于等离子体刻蚀技术领域，为了解决反应腔上方功能拓展受限的技术问题，本技术方案包括：反应腔；气体喷淋头，其位于反应腔的上盖板下方，用于向反应腔通入工艺气体；基座，其与气体喷淋头相对设置于反应腔的下部，用于承载基片，基座与气体喷淋头之间形成放电空间；升降环，其可以在围绕气体喷淋头到围绕放电空间两个位置之间移动，升降环上侧通过导杆与上盖板上方的驱动器连接，以及，导杆与驱动器位于上盖板的上方的环形区域内，使上盖板上方的中心区域具有容纳空间，本技术方案主要用于需要生成等离子体对基片进行处理的系统中。
天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本61927.9423万人民币，实缴资本61927.9423万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了27家企业，参与招投标项目65次，知识产权方面有商标信息71条，专利信息1425条，此外企业还拥有行政许可71个。
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