金融界2025年1月25日消息,国家知识产权局信息显示,苏州中砥半导体材料有限公司申请一项名为“用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法”的专利,公开号CN119347620A,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,本发明属于抛光设备领域,具体提供了一种用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法,其中,用于金刚石晶体的抛光设备包括:支撑架;旋转台,其转动设置在支撑架上,且旋转台的顶面开设有多个同心设置的圆环状蓄液槽;驱动机构,其设置在支撑架上,且用于驱动旋转台转动;抛光布,其设置在旋转台上,且用于金刚石晶体的倒角抛光。通过在旋转台顶面设置多个同心设置的圆环状蓄液槽,旋转台转动时,圆环状蓄液槽中的抛光液在离心力的作用下,向外飞溅,从而对圆环状蓄液槽正对的抛光布持续浸润,保持抛光布中水分的充足,从而避免抛光布中抛光液出现结晶析出的现象。同时,提高了对抛光液的利用效率,减少了抛光液的浪费,从而降低了抛光的成本。
天眼查资料显示,苏州中砥半导体材料有限公司,成立于2021年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币,实缴资本530万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州中砥半导体材料有限公司专利信息21条,此外企业还拥有行政许可6个。
本文源自:金融界