北方华创申请进气装置及半导体工艺设备专利,能够提高形成在晶圆表面中心区域中的薄膜的厚度

金融界 2025-01-30 11:17:42

金融界2025年1月30日消息,国家知识产权局信息显示,北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“进气装置及半导体工艺设备”的专利,公开号CN119372618A,申请日期为2023年7月。

专利摘要显示,本发明提供一种进气装置及半导体工艺设备。其中,进气装置包括进气主体和扰动气体结构;进气主体内部设置有相互隔离的第一气体通道和第二气体通道,第一气体通道和第二气体通道分别用于向反应腔室中通入第一反应气体和第二反应气体;扰动气体结构设置于进气主体上,且与第一气体通道和第二气体通道相隔离;扰动气体结构具有与反应腔室连通、用于输出扰动气体的出气口,出气口对应于反应腔室的中心区域设置,且出气口的出气方向朝靠近反应腔室的轴线方向倾斜向下,以能够促进反应腔室中心区域中的反应气体混合并发生反应,从而能够提高形成在晶圆表面中心区域中的薄膜的厚度。

天眼查资料显示,北京北方华创微电子装备有限公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币,实缴资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析,北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目1000次,知识产权方面有商标信息38条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可339个。

本文源自:金融界

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