金融界2025年1月30日消息，国家知识产权局信息显示，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司申请一项名为“一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用”的专利，公开号CN119376200A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明属于半导体制造工艺中蚀刻后光刻残留物的剥离技术领域，尤其涉及一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用。本发明提供的光刻胶剥离液成分包括环状有机胺、醇醚有机溶剂、二元醇和唑类缓蚀剂；所述环状有机胺化学式如式（I）所示，式（I）中，R1和R2各自独立地为‑H、‑CH3、‑NH2、‑C6H5、‑CH3C6H5、‑CH3CH2OH或‑CH3CH2NH2，R3为‑H或‑CH3；所述二元醇为含有碳原子数2~6的脂肪族二元醇；所述光刻胶剥离液不含水、非质子极性溶剂、氧化剂、卤素化合物、羟胺、季铵碱和无机碱中的任意一种。本发明提供的光刻胶剥离液不腐蚀GaAs和PI衬底，且具有优异的溶胶能力。
天眼查资料显示，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1793.7252万人民币，实缴资本856.7342万人民币。通过天眼查大数据分析，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，知识产权方面有商标信息20条，专利信息18条，此外企业还拥有行政许可15个。
本文源自：金融界
