金融界2025年1月31日消息，国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“发光二极管及发光二极管制备方法”的专利，公开号CN119384130A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本公开提供了一种发光二极管及发光二极管制备方法。发光二极管包括：衬底、外延结构和反射层；所述外延结构呈台阶结构，所述外延结构还开设有延伸到所述衬底的隔离槽；所述反射层覆盖所述台阶结构和所述隔离槽的部分所述隔离槽的另一部分露出所述衬底。反射层仅覆盖隔离槽的部分区域，另一部分区域未被反射层覆盖而露出衬底，在进行发光二极管划片时也是在未被反射层覆盖的衬底处进行，从而避免了划片过程中容易造成反射层损伤甚至脱落的问题，提高了发光二极管的稳定性及亮度。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币，实缴资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目47次，专利信息916条，此外企业还拥有行政许可35个。
本文源自：金融界
