金融界2025年2月13日消息，国家知识产权局信息显示，安徽华矽半导体科技有限公司取得一项名为“用于半导体设备的双电级静电吸盘及等离子体处理装置”的专利，授权公告号CN222440573U，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种用于半导体设备的双电极静电吸盘，包括基座和静电吸盘主体部，所述静电吸盘主体部连接在基座上，所述静电吸盘主体部包括陶瓷基板、图形化保护层和薄膜电极，图形化保护层覆盖在陶瓷基板上，在图形化保护层与陶瓷基板之间设有两个薄膜电极形成双电极结构，薄膜电极位于陶瓷基板和图形化保护层之间或嵌埋于陶瓷基板中。本实用新型通过形成具有图形化保护层的静电吸盘主体部，增强了静电吸盘主体部的抗等离子体性能，表面硬度，热传导性；解决了现有技术中静电吸盘容易造成损伤和高温下静电吸盘结构不稳定的问题，提高了其使用寿命。本实用新型还公开了一种等离子体处理装置。
天眼查资料显示，安徽华矽半导体科技有限公司，成立于2021年，位于宣城市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币，实缴资本1211万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽华矽半导体科技有限公司参与招投标项目4次，专利信息10条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自：金融界
