金融界2025年2月20日消息，国家知识产权局信息显示，上海晶世创新材料科技有限公司取得一项名为“一种样品台均匀冷却装置和微波等离子体化学气相沉积系统”的专利，授权公告号CN222499363U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种样品台均匀冷却装置和微波等离子体化学气相沉积系统，涉及微波等离子体化学气相沉积相关领域。样品台均匀冷却装置包括样品台和设于样品台中的多组冷却机构。各组冷却机构均包括冷却管路、进液管路和出液管路。各组进液管路一端均与同组冷却管路的一端连通，另一端外接冷却循环装置。各组进液管路上均设有第一流量计和第一阀门。各组出液管路一端均与同组冷却管路的另一端连通，另一端外接冷却循环装置。沿样品台的中心向样品台的边缘方向，各组冷却管路依次环套排布。通过上述设置，实现了对样品台不同区域温度的局部调节，使薄膜在生长过程中，其表面温度可以达到均一。
天眼查资料显示，上海晶世创新材料科技有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本1500万人民币，实缴资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海晶世创新材料科技有限公司参与招投标项目2次，知识产权方面有商标信息4条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
