应用材料取得高密度等离子体增强化学气相沉积腔室专利

金融界 2025-02-26 13:21:11

金融界2025年2月26日消息,国家知识产权局信息显示,应用材料公司取得一项名为“高密度等离子体增强化学气相沉积腔室”的专利,授权公告号CN112534557B,申请日期为2019年7月。

本文源自:金融界

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