金融界2025年3月22日消息，国家知识产权局信息显示，吉翔半导体设备（无锡）有限公司申请一项名为“等离子反应装置和等离子发生器”的专利，公开号CN119656817A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本发明提供一种等离子反应装置和等离子发生器。等离子反应装置包括：反应腔和上盖，上盖覆盖反应腔并包括中心开口以及与中心开口隔开的进气接头；其中，等离子反应装置还包括设置在上盖下方的气冷盘，气冷盘包括进气口、出气口以及位于进气口和出气口之间的回旋式气流通道，冷却气体经由进气接头进入进气口、在回旋式气流通道中形成旋转气流并经由出气口排出，对上盖进行冷却。等离子发生器安装在上盖的中心开口处，等离子发生器的等离子喷口伸入反应腔内部。
天眼查资料显示，吉翔半导体设备（无锡）有限公司，成立于2022年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1600万人民币，实缴资本700万人民币。通过天眼查大数据分析，吉翔半导体设备（无锡）有限公司财产线索方面有商标信息8条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自：金融界
