武汉华星光电申请阵列基板和显示装置专利,降低无机层失效的风险

金融界 2025-03-22 23:20:37

金融界2025年3月22日消息,国家知识产权局信息显示,武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“阵列基板和显示装置”的专利,公开号CN119653861A,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本申请提供一种阵列基板和显示装置,阵列基板包括衬底以及设置在衬底上方的金属遮光层、第一有源层、无机叠层和第一导电层,无机叠层在对应第一有源层的第一源极接触部和第一漏极接触的位置设置有第一过孔,第一导电层形成有第一晶体管的第一源极和第一漏极,第一源极和第一漏极分别通过对应的第一过孔与第一源极接触部和第一漏极接触部电连接,金属遮光层包括对应至少部分第一过孔设置的第一辅助部,第一辅助部在衬底上的正投影覆盖对应的第一过孔在衬底上的正投影,以降低第一过孔孔底处的无机层产生裂纹的风险,进而降低无机层失效的风险。

天眼查资料显示,武汉华星光电半导体显示技术有限公司,成立于2016年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币,实缴资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目504次,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可366个。

本文源自:金融界

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