金融界2025年4月2日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“发光器件和显示装置”的专利，公开号CN119744046A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种发光器件和显示装置，发光器件包括衬底、第一半导体层、发光层、第二半导体层、电流阻挡层以及第一阻挡部，第一半导体层设于衬底的一侧；发光层设于第一半导体层远离衬底的一侧，发光层包括主体部和围绕主体部设置的边缘部；第二半导体层设于发光层远离第一半导体层的一侧；电流阻挡层设于第二半导体层远离发光层的一侧；第一阻挡部位于发光层远离第一半导体层的一侧，第一阻挡部的电阻大于电流阻挡层的电阻，第一阻挡部在衬底上的正投影与边缘部在衬底上的正投影重叠；第一阻挡部在衬底上的正投影位于电流阻挡层在衬底上的正投影的至少一侧。本申请可以减少发光器件的侧面漏光，提高发光器件正向出射的光量。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币，实缴资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目651次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可261个。
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