金融界2025年4月2日消息，国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“发光器件和显示装置”的专利，公开号CN119744045A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种发光器件和显示装置，发光器件包括层叠设置的衬底、第一半导体层、发光层以及第二半导体层，第一半导体层与发光层的接触面为第一面；第二半导体层与发光层的接触面为第二面，第二半导体层远离发光层的一面为第三面；第一面、第二面以及第三面中的至少一面位于主发光区的部分为第一表面，第一面、第二面以及第三面位于次发光区的部分为第二表面；在发光器件的平面视图中，单位面积的第一表面与相邻膜层表面接触形成的第一接触电阻小于单位面积的第二表面与相邻膜层表面接触形成的第二接触电阻。本申请旨在减弱发光器件的侧壁发光，提高发光器件的正面发光效率。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币，实缴资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目651次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可261个。
本文源自：金融界
