金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，宁波南大光电材料有限公司申请一项名为“一种低边缘粗糙度的ArF光刻胶树脂及其制备方法”的专利，公开号CN119775481A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明适用于半导体制造材料技术领域，提供了一种低边缘粗糙度的ArF光刻胶树脂及其制备方法，该ArF光刻胶树脂由这些单体制成，按重量百分比计，各单体的比例为：40％～60％内酯单体、40％～60％酸保护单体和0.1％～20％柔性单体。本发明通过引入玻璃化转变温度较低的柔性丙烯酸酯单体可以增加树脂分子的链段的柔性，降低树脂的玻璃化转变温度，减少树脂分子之间的链缠结，有利于光刻胶在显影过程中更均匀的溶解，从而得到边缘粗糙度更低的光刻图形。使用本发明的ArF光刻胶树脂制备的光刻胶具有优异的图形形貌和边缘粗糙度，提升了集成电路制造过程中的产品良率。
天眼查资料显示，宁波南大光电材料有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本36733.19万人民币，实缴资本36733.19万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波南大光电材料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目33次，专利信息143条，此外企业还拥有行政许可44个。
本文源自：金融界
