北方华创取得半导体工艺腔室及半导体工艺设备专利,能够改善晶圆的刻蚀均匀性

金融界 2025-04-10 13:27:42

金融界2025年4月10日消息,国家知识产权局信息显示,北京北方华创微电子装备有限公司取得一项名为“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”的专利,授权公告号CN222734924U,申请日期为2024年2月。

专利摘要显示,本实用新型提供一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备,半导体工艺腔室包括腔室本体、介质窗、射频线圈、第一测距部件和调节组件,介质窗设置在腔室本体的顶部;射频线圈设置在腔室本体外,并位于介质窗的上方;第一测距部件与射频线圈配合并朝向介质窗设置,用于检测射频线圈与介质窗之间多个位置的第一间距;调节组件与射频线圈配合设置,用于根据第一间距,来调节射频线圈与介质窗的平行度。本实用新型提供的半导体工艺腔室及半导体工艺设备,能够对静电卡盘与射频线圈的平行度进行检测并调节,从而能够改善静电卡盘与射频线圈的平行度,进而能够改善晶圆的刻蚀均匀性。

天眼查资料显示,北京北方华创微电子装备有限公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币,实缴资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析,北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目1011次,财产线索方面有商标信息45条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可339个。

本文源自:金融界

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