金融界2025年4月16日消息，国家知识产权局信息显示，昆山欣谷微电子材料有限公司申请一项名为“一种用于TFT金属膜的蚀刻液”的专利，公开号CN119824419A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明属于金属膜蚀刻液技术领域，具体涉及一种用于TFT金属膜的蚀刻液，包括以下质量分数组分：5～15%金属膜氧化剂、1～5%有机酸、1～10%有机碱、0.001～5%缓蚀剂，剩余的为去离子水。本发明中所制备的蚀刻液不含有氟系化合物，生产过程中不会产生含氟废水，降低了污水处理难度并能提高蚀刻速率。
天眼查资料显示，昆山欣谷微电子材料有限公司，成立于2008年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山欣谷微电子材料有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目9次，专利信息81条，此外企业还拥有行政许可23个。
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