金融界2025年4月17日消息，国家知识产权局信息显示，湖北星辰技术有限公司申请一项名为“改善等离子体刻蚀首片效应的方法及其装置”的专利，公开号CN119833399A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开实施例提供了一种改善等离子体刻蚀首片效应的方法及其装置；其中，所述方法包括：对第一批晶圆中的第1至第M片晶圆进行刻蚀操作，对刻蚀腔室进行清洁操作，以及对第M+1至第N片晶圆进行刻蚀操作获取第M片晶圆中间刻蚀位的第一刻蚀尺寸及边缘刻蚀位的第二刻蚀尺寸，第L片晶圆中间刻蚀位的第三刻蚀尺寸及边缘刻蚀位的第四刻蚀尺寸；M+1≤L≤N；基于第一刻蚀尺寸和第三刻蚀尺寸得到第一尺寸差；基于第二刻蚀尺寸和第四刻蚀尺寸得到第二尺寸差；获取第一关系模型，以及第二关系模型；基于第一尺寸差与第一关系模型、第二关系模型，确定第一气体调整量；基于第二尺寸差与第一关系模型、第二关系模型，确定第二气体调整量。
天眼查资料显示，湖北星辰技术有限公司，成立于2021年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本2935.8218万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北星辰技术有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目28次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息54条，此外企业还拥有行政许可16个。
本文源自：金融界
