金融界2025年4月19日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司申请一项名为“13393.一种光电探测器及其制造方法”的专利，公开号CN119815942A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开实施例提供一种光电探测器及其制造方法。一种光电探测器包括：基底，基底的表面为第一半导体层；第一半导体层包括凹槽，以及位于凹槽沿第一方向两侧的第一掺杂区和第二掺杂区；部分位于凹槽内的锗吸收层；第一掺杂区、锗吸收层和第二掺杂区构成水平PIN结构；其中，锗吸收层沿第一方向两侧的侧壁，分别具有与第一掺杂区和第二掺杂区相同类型的掺杂；所述第一方向平行于所述基底表面。
天眼查资料显示，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司，成立于2017年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本16000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司参与招投标项目98次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息319条，此外企业还拥有行政许可5个。
本文源自：金融界
