沈阳爱科斯取得多弧离子镀膜装置专利

金融界 2025-04-22 13:28:15

金融界2025年4月22日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳爱科斯科技有限公司取得一项名为“多弧离子镀膜装置”的专利,授权公告号CN114717522B,申请日期为2022年5月。

天眼查资料显示,沈阳爱科斯科技有限公司,成立于2014年,位于沈阳市,是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,沈阳爱科斯科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目15次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息58条,此外企业还拥有行政许可6个。

本文源自:金融界

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