金融界2025年4月26日消息，国家知识产权局信息显示，浙江工业大学和杭州智谷精工有限公司申请一项名为“电极间隙精密可调的等离子体刻蚀装置及调整方法”的专利，公开号CN119864269A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本发明公开了电极间隙精密可调的等离子体刻蚀装置及调整方法，本发明的刻蚀装置包括真空腔室，所述真空腔室内设有上电极组件、下电极组件、龙门架、丝杆组件、距离传感器，所述距离传感器成组设于上电极组件上，所述下电极组件固定于真空腔室底部，所述上电极组件与龙门架固定连接；所述龙门架的两端分别与丝杆组件相连。本发明的刻蚀装置能够精密调节上电极与工件之间的间隙和角度，促进等离子体均匀分布，提高加工的均匀性和一致性；同时，设置冷却系统，能够有效控制刻蚀装置内的温度波动。本发明的调整方法，能够在刻蚀过程中不断精密调整上电极喷嘴与工件之间的距离，保持上电极喷嘴与工件的加工距离恒定，提供更高效、更稳定的加工能力。
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