在芯片制造的高端领域，EUV光刻机可是个“香饽饽”，而中国正不断突破这一关键技术，从追赶者逐渐变为并跑者。EUV光刻机有三大核心部件：光源系统、物镜系统、双工件台，中国在这三个方面都取得了显著进展。
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光源系统方面，上海微电子公布的专利解决了EUV光源收集的难题。这个专利的带电粒子收集方法，比ASML的还要牛，能减少收集器镜污染，延长使用寿命，中国在EUV核心技术上算是站稳了脚跟。
双工件台方面，华卓精科在DUV光刻机领域已有成果，长春光机所和北京中科科美在EUV光刻机的超高精度真空双工件台方面更是取得了突破性进展。
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