近日,芯片行业掀起了一场关于工艺命名的轩然大波。台积电、三星等巨头所宣称的2nm芯片,真实情况竟是22nm?而令人震惊的0.2nm芯片,实际上不过是6nm。这一消息引发了广泛关注和热议,不少网友表示感觉自己“被愚弄”。
那么,这背后究竟隐藏着怎样的秘密?是厂商们在故意玩弄数字游戏,还是行业规则本就如此复杂?让我们一起来揭开这层神秘的面纱。
首先,我们需要了解“XX纳米”这一命名方式的起源和演变。在过去,芯片工艺的纳米命名确实代表着实际的尺寸,例如14纳米工艺就意味着晶体管栅极的宽度为14纳米。
随着技术的不断发展,厂商们发现这种命名方式在28纳米之后逐渐失去了意义。因为芯片性能的提升不再仅仅依赖于尺寸的缩小,而是更多地取决于材料、设计和工艺的优化。
于是,厂商们开始采用一种新的命名策略:用“XX纳米”来表示芯片的性能等效水平,而非实际尺寸。这就是为什么我们看到了诸如“7nm”、“5nm”、“3nm”等听起来越来越小的数字,但实际上它们与芯片的实际尺寸并无直接关联。这种命名方式虽然有些令人困惑,但也在一定程度上反映了芯片性能的不断提升。
然而,这种数字游戏背后的真相却让人不禁感叹。以ASML公司公布的数据为例,台积电的3nm芯片实际金属半距离高达22.5nm,而所谓的2nm芯片更是对应着22nm的实际尺寸。这不禁让人产生一种“被欺骗”的感觉。
那么,为什么厂商们不能坦诚地用实际尺寸来命名呢?这其中的原因既涉及到市场竞争的压力,也与用户认知有关。在激烈的市场竞争中,各家公司都在努力追求更小的制程数字,以吸引消费者的眼球。
而从技术角度来看,单纯缩小尺寸已经难以继续提升性能,因此厂商们只能通过其他方面的优化来弥补这一不足。然而,这些提升却很难用数字来直观表达,因此厂商们只能继续沿用这种“走小数”的命名方式。
在这场数字游戏中,ASML和台积电等巨头无疑扮演着重要角色。作为光刻机的垄断者,ASML乐于看到这场游戏的继续,因为每次芯片厂想要升级工艺,都需要购买其昂贵的新光刻机。
台积电却成功地用旧型号的光刻机研发出了3nm、2nm的芯片,这无疑是对ASML的一种挑战。台积电的这种做法不仅逼迫ASML降低设备价格,也为整个行业带来了新的思考:我们是否真的需要不断追求更小的数字?
面对摩尔定律的终点,我们该期待什么?显然,单纯的尺寸缩小已经不再是解决问题的关键。未来,芯片行业需要寻找新的突破口,如新材料、新架构和新工艺等。这些新技术将有望为我们带来更高效、更稳定的芯片产品。
最后,作为消费者和行业从业者,我们需要保持清醒的头脑,不被数字游戏所迷惑。我们应该关注芯片的实际性能和体验,而非仅仅追求数字上的小巧。只有这样,我们才能真正把握芯片行业的发展脉搏,共同推动技术的进步与创新
摩尔规矩和这个一直说的都是等效xx纳米,这个有关注的都知道
我是个老实人,别欺骗我的感情![笑着哭]
自己做不出来别瞎逼逼
既然14纳米工艺就意味着晶体管栅极的宽度为14纳米,怎么又倒回去说这种命名方式在28纳米后失去了意义,这不就等于把14纳米也否了,你不是自打嘴巴吗?14纳米都是真实的,怎么可能2纳米真实情况是22纳米?作者说的,完全不符合逻辑。
“我们是否真的需要不断追求更小的数字?” 就冲你这句话,真是坏的很啊,表面上好像是说我国现在技术达不到也没关系,实际上这种麻痹自己的思想才是最坏的,人家都在不断突破,你突破不了就反思需不需要?
其实小编主要是想表达,即使华为造不出5nm芯片,凭借现有的14nm制程也能遥遥领先
如此说来中国生产出真正的7nm芯片不是大幅度领先美国人?
小编懂的话,还在UC骗流量吗[笑着哭]
都是扯淡!是个物体都有长宽高三维,那些几nm是一维的吗[得瑟][得瑟][得瑟]
哦,不是真纯血2nm
摩尔定律的终点必将在实际光刻间距一纳米时终结!因为小于1nm的间距其绝缘及高频隧穿效应将无法克服!到时只能向立体叠加发展了!
你是不是想说人家的3纳米和咱们的28纳米一样大[捂脸哭]
0.2纳米?
目前国内也就中芯跟台积电有7纳米了