众所周知，ASML是全球最大的光刻机设备供应商，不仅掌握着全球EUV光刻机全部的市场份额，就连DUV光刻机也是碾压日本的尼康和佳能，十几年来一直霸居光刻机领域的“头把交椅”。但其一直都没有“主心骨”，尤其是在美国面前的表现，卑微的不能再卑微，美国一句话，ASML就乖乖的与中企切断合作，禁止向中芯国际等中企供货EUV光刻机以及最先进的DUV光刻机。

要知道，光刻机设备是芯片制造过程中至关重要的设备，没有它，根本就造不出芯片，其重要性不言而喻。美国联合日本、荷兰切断我国获取光刻设备的路径，让我国的半导体发展承受着巨大的压力。

为了彻底打破美国等西方国家为我们半导体领域发展设置的禁令，近几年，我国开始加大了对集成电路、工业母机等核心领域的投入。要知道，早在两年前国家已经定下了2025年国产芯片自给率达到70%的目标。

为此，我们斥巨资打造了“东方芯港”等基础半导体产业链设施，为了鼓励国内芯片企业坚持走自研道路，国家出台了免除半导体相关企业十年税收的扶持政策，旨在鼓励国内相关企业齐心协力合作，共同推动我国半导体领域的发展。

得益于国家的政策倾斜，国内半导体企业拔地而起，中科院专门成立了“攻克核心技术”的攻关小组，上海微电子等光刻企业致力于对传统光刻机的技术突破。值得注意的是，在这样全民共同努力之下，我国光刻机已经突破28nm工艺，这也是当下市场需求的主流工艺。

另外，近期不断有消息传出，国内相关企业已经实现了14nm工艺芯片的量产。这也绝非是空穴来风，因为现在中芯国际在芯片制造技术上已经达到7nm工艺的技术水平，一直没有大规模量产，是因为没有EUV光刻机。

虽然利用现在的光刻设备，加上中芯国际独有的SAQP四重曝光技术可以实现7nm芯片的生产，现在一直没有进行规模量产，或许就是因为良品率不高的原因，毕竟7nm工艺属于先进工艺，制造过程中EUV光刻机是必不可少的，但目前实现14nm芯片的量产是没有太大问题的。

看到我国半导体领域取得的突破后，ASML总裁坐不住了，在三月底开启了中国行，表示将会加大与中国在光刻领域的合作。虽然，ASML遵从美国的意志，断供我国光刻机等设备，但我国并没有因此对其在中国市场的经营进行反制，而是继续保持开放、支持的态度欢迎ASML来中国投资。本以为，ASML总裁温克宁这次中国行后，会积极展开与我国在半导体光刻领域的合作。

没想到，这家伙离开中国后就“变脸”了，公开发表奇葩言论：“中国自研光刻机是在破坏全球芯片产业供应链”。此话一出，让业界一片哗然，可以是把对美国唯命是从的态度彻底表现出来了。但欧洲诸多半导体专家认为，是中国自研光刻机的速度让ASML感受到了危机。要知道，EUV光刻机和最先进的DUV光刻机不能自由出货中国市场，ASML承受了巨大的损失，一旦中国取得光刻机技术突破，那么ASML将会在中国市场没有任何立足之地。

温克宁发出这样的奇葩言论，或许就是为了引起全球半导体产业的重视，企图通过这样的手段来阻止中国在光刻机领域的崛起。值得注意的是，据供应链消息称，ASML当前正面临大客户砍单的压力。而为了缓解压力，ASML加速扩展对中国市场进行布局，增加光刻系统的销量。预计2023年在中国市场的销售额继续保持在22亿欧元。

为此，ASML将向中国市场出口“浸润式光刻系统”，也就是ASML当前在售的三款DUV光刻机之一的2000i以及后续推出的浸润式光刻系统，值得注意的是，这款光刻机是用于14nm及以下工艺芯片制造的，不过在7nm工艺上的良品率不高，且成本高，基本上没有竞争力。要知道，国内14nm工艺的芯片已经开始摆脱技术封锁，马上进入量产阶段了，禁令之下，国产芯片刚刚有所好转，ASML就打破禁令向中国出售过时的低端光刻机，试图用老旧光刻机来腐蚀中国刚刚起步的光刻机产业，确实是其心可诛！所以，才有外媒称：ASML把事情闹大了！

不过这也是，西方国家一直惯用的伎俩，在我们没有实现技术突破的领域，要么高价卖给你，要么对我们“卡脖子”，一旦我们有所突破，便开始低价倾销，来抢占市场。这样的不讲武德做法，不会有什么好结果！

不管温克宁处于何种目的发出“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链”的奇葩言论，还是其打破禁令将向中国市场出后浸润式光刻系统，都不能阻止中国加速研发光刻机的脚步。在中国科学家和相关企业的努力下，用不了多久我们就可以拥有属于我们自己的高端光刻机，因为在中国科学家眼中，一切技术封锁都是“纸老虎”！

希望，国内相关企业坚持走自主研发路线，不受外界任何因素的影响，专心致力于国产光刻设备的技术突破。在这里，请为中国科学家和相关半导体企业点赞，期待在他们共同努力下，国产高端光刻机早日横空出世，早日实现中国半导体产业的崛起！