导读：50亿建厂计划敲定，光刻机核心节点自主化，外媒：中芯开始突围了

近年来，美国为阻碍中国半导体产业的迅猛发展，不断通过各种手段施加压力，试图将中国企业孤立于全球供应链之外。这种策略虽然在一定程度上得到了部分欧洲国家的响应，但其实际效果却远未达到预期。面对外部压力，中国半导体企业没有选择退缩，而是坚定地走上了自主研发的道路，以实际行动回应了美国的封锁。如今，中国芯片产业不仅在技术上取得了显著突破，还在市场占有率上稳步上升，呈现出强劲的自主化发展势头。外媒：中芯开始突围了！

自主化浪潮：从华为麒麟9000S芯片的回归说起

华为麒麟9000S芯片的回归，无疑是中国半导体产业自主化进程中的一个重要里程碑。这款比肩7nm性能的芯片，不仅展示了中国企业在高端芯片设计领域的实力，也为中国整个半导体产业链的自主化树立了典范。在外部封锁加剧的背景下，华为等企业通过加大研发投入，不断突破技术瓶颈，实现了从设计到制造的关键环节自主可控。这不仅提升了中国半导体产业的国际竞争力，也为后续高端芯片的研发和生产奠定了坚实基础。

随着华为麒麟9000S等芯片的成功推出，中国半导体产业在高端芯片供应方面的困境得到了有效缓解。美国所谓的“芯片规则”因此失去了原有的威力，中国企业的产业权限逐步恢复，甚至在某些领域实现了反超。这一变化不仅彰显了中国半导体产业的韧性和潜力，也为全球半导体市场的多元化发展注入了新的活力。

芯片自给率提升：迈向70%目标的坚实步伐

在国家政策的引导和支持下，中国半导体产业近年来取得了长足发展。据统计，2024年上半年，中国芯片产能同比增长了26.6%，达到2845亿颗。中芯国际等国内领先企业不仅在晶圆代工领域取得了显著成绩，还在中低端市场实现了自给自足，并逐步向高端市场迈进。

中国芯片自给率的不断提升，是中国半导体产业自主化进程中的重要体现。这不仅有助于保障国家信息安全和产业链安全，还为中国半导体企业提供了更广阔的发展空间。随着自给率的持续提高，中国半导体产业在全球市场的地位也将进一步提升，为全球半导体产业的平衡发展贡献更多力量。

50亿建厂计划：上海图双精密装备企业的光刻机自主化之路

在光刻机这一半导体制造的关键设备领域，中国也取得了重要突破。近期，上海图双精密装备企业宣布将投资50亿建设超级光刻机工厂，这一消息无疑为中国半导体产业注入了新的动力。

该工厂位于浙江，定位为超级光刻机工厂，主要从事超高精度的国产光刻机研发。这一项目不仅有助于提升中国光刻机的技术水平，还将为中国半导体产业提供更加可靠的光刻机供应。在光刻机领域实现自主可控，对于保障中国半导体产业链的安全和稳定具有重要意义。

上海图双精密装备企业的光刻机工厂项目分为两期进行。第一期将投资5亿用于扩大公司在上海的产能，为后续的批量生产奠定基础。二期工程将于2025年正式投产，预计年产光刻机数量超过100台。这一产能规模不仅将满足国内市场需求，还将为出口国际市场提供有力支持。

值得一提的是，上海图双精密装备企业的定位和ASML等国际知名光刻机制造商一致，都是通过整合供应链来完成光刻设备制造。然而，与ASML不同的是，上海图双在前期主要从事设备的翻新工作，这一举措不仅解决了光刻机售后维修的危机，还为后续自主研发积累了宝贵经验和技术储备。

核心节点自主化：中国芯成功突围

在光刻机等核心设备领域实现自主化，是中国半导体产业自主化进程中的重要一环。随着上海图双精密装备企业等国内企业的崛起，中国半导体产业在光刻机领域的技术水平和市场占有率将不断提升。这不仅将推动中国半导体产业向更高层次发展，还将为全球半导体产业的多元化和平衡发展作出重要贡献。

在外部环境日益复杂多变的背景下，中国半导体产业坚持自主研发、创新驱动的发展道路，不断取得新的突破和成就。从华为麒麟9000S芯片的回归，到芯片自给率的持续提升，再到光刻机自主化进程的加速推进，中国半导体产业正以更加坚定的步伐迈向全球领先地位。未来，随着更多国内企业的崛起和技术的不断创新，中国半导体产业将为全球半导体产业的繁荣和发展贡献更多智慧和力量。

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