日媒：华为相关的企业推出全套芯片设备，靠一己之力单挑欧美国家

据日本媒体《日经新闻》报道称，来自于中国深圳的新凯来公司，与华为公司建立了合作关系，其目的是开发出具有中国自主技术的世界一流芯片制造设备。并且由新凯来公司推出的自主芯片设备，将会在未来与市场的领导者ASML、KLA、Lam Research所推出的芯片制造设备进行市场竞争。

深圳新凯来公司在技术展会上面公布了自家推出的多款芯片制造产业的核心设备，其中包括了覆盖沉积设备、刻蚀机、检测设备等三大制造环节，并未公布传闻当中的国产光刻机，也并没有公开表示任何与国产光刻机相关的技术信息。

尽管老生常谈的国产光刻机设备暂时还没有官方的公开说明，但是新凯来所发布的多种制造设备均展示出了强劲的市场竞争力。

这些设备以中国文化中的山脉进行命名，分别是：

这些芯片加工所需的制造设备，一直以来都被海外国家所垄断。

而中国企业例如华大九天、北方华创、中微半导体、盛美半导体所推出的国产制造设备，在多个技术环节均实现了去美化的生产制造。不过由于国产芯片供应链的体系没有成熟，很多国内企业推出的制造设备无法与产业链建立高效率的生产制造模式。

而新凯来公司脱身于华为星光工程部，又有深圳国资委在后面支撑，并且在深圳地区与中芯深圳、华润微电子等大型的晶圆企业合纵连横，形成了一整套完善的芯片产业基础。依靠先天性的产业优势，新凯来在短短三四年的时间内，就推出了多款成熟的制造设备，并且大部分的制造设备均接近国际层面的领先水平。

外延沉积设备一直被美国应用材料、日本东京电子等公司所垄断。新凯来的外延沉积设备通过对反应腔体进行设计优化，使其沉积后的薄膜均匀性控制到了nm级别，接近于应用材料公司所推出的EPI 3000系列设备的水平。

而原子层沉积设备、物理气相沉积设备、化学气相沉积设备，这三种制造设备均被美国、日本、荷兰三个国家的企业所掌控。与外延沉积设备一样，美国应用材料、日本东京电子是沉积设备的龙头老大。

新凯来所推出的国产沉积设备，其技术水平与应用材料和东京电子的产品不相上下，但是由于该产品还并未进行长时间的生产线验证，所以现在还无法断定这些国产的制造设备是否具有大面积量产先进芯片的水平。

虽然新凯来公司脱身于华为公司的技术团队，彼此之间存在技术合作，但是双方并未公开股权关系，也并未在公开场合表示有什么合作项目。所以新凯来只能算是华为公司的一个技术合作企业，并不能直接说明新凯来和华为有深度的绑定关系。

根据海外技术机构的产品分析称，新凯来的相关设备已经具备了在300mm大硅片上制造28nm成熟芯片的水平，哪怕是该公司没有推出所谓的中国光刻机，依靠现有的制造设备，也完全可以将成熟芯片的许多个制造环节全面打通贯穿。

并且新凯来还具有多种芯片产业的测试设备，可以完成晶圆电气性能测试、裸片功能测试等多个技术环节，但是该测试设备目前只针对于功率半导体，并未公布这些设备是否会用于逻辑芯片的生产制造当中。

根据产业报告显示，新凯来的国产制造设备可以替代曾经从美国应用材料、日本东京电子所进口的部分设备，使中国28nm芯片的国产化率从之前的30%进一步增加到50%以上。

并且由国内企业推出的制造设备，在系统维护上面具有极大的优势，远比进口设备的维护更加方便高效。

中国企业使用DUV设备制造先进芯片的唯一方法，就是通过多重曝光和自对准多重图案化技术。该技术可以通过多次的曝光和刻蚀技术，将不同的掩膜版进行堆叠，从而强行缩短晶体管内部的电流沟道距离，实现更加先进的制程工艺技术。

新凯来的多设备发展方案，也在一定程度上为中国芯片打通了另一条发展路线。一旦EUV技术短时间内无法达到量产商用的水平，那么也可以通过自对准多重图案化的国产供应链方式制造先进芯片。