近期,当工业和信息化部郑重其事地揭晓《2024版重大技术装备推广应用指导目录》之时,氟化氩光刻机的详尽技术指标犹如一颗璀璨星辰,赫然闪耀于目录之中,这一震撼性消息犹如石子投入平静的湖面,迅速在国际科技界激起了连绵不绝的壮阔波澜。
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它犹如一座里程碑,不仅赫然昭示着中国在低端光刻机领域的国产化征途上,已经实现了历史性的重大跨越,更如一道曙光,透露出中国在批量生产28纳米乃至更高级别成熟芯片方面的雄厚实力,为全球半导体市场注入了一剂充满希望的强心针,让业界为之振奋。
然而,这辉煌成就仅仅是波澜壮阔征程的启航点。中国光刻机技术的此番突破性飞跃,是否足以让我们在全球科技舞台上挺直腰杆,彻底摆脱对外部技术的依赖?