三氧化钨的基本物理性质

三氧化钨的相对分子量为231.85

理论密度为7.16g/cm3

不溶于水和酸

微溶于氢氟酸（HF），可溶于热碱生成钨酸盐

三氧化钨的熔点为1472℃，但在温度高于1100℃时就开始升华，升华热为459.8kJ/mol，折射率由1.75～2.8

三氧化钨的晶体结构

三氧化钨晶体具有八面体结构，钨原子位于八面体的中心，氧原子位于八个面的各个顶点上，如图1.1(a)所示，其结构类似于ReO3结构。实际上存在WO3八面体的倾斜和八面体中钨原子的错位，如图1.1(b)所示，导致WO3的对称性要低于理想的ReO3结构。

在不同的温度下，三氧化钨有五种晶相结构，随着温度的降低，三氧化钨晶体会经历四方相、正交相、单斜相、三斜相、单斜相的相变过程。在相变的过程中，它的电阻率和禁带宽度也会发生相应的变化。

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三氧化钨薄膜的制备方法

目前制备方法有：蒸发法、溅射法、溶胶凝胶法、电子束蒸发法、化学蒸气沉积法、阳极氧化法、电沉积法、脉冲准分子激光沉积法、离子镀法等。

使用较多的是蒸发法、溅射法、溶胶凝胶法。

三氧化钨的应用

1.三氧化钨是一种n型间接带隙半导体材料,因其禁带宽度比较窄、空穴所在的价带电位比较高,是一种非常具有应用前景的氧化物半导体光催化制。

2.三氧化钨是一种重要的催化活性材料，既可以做主催化剂又可以做辅助催化剂。

3.三氧化钨是一种重要的电致变色材料，三氧化钨薄膜在光学电致变色灵巧窗、信息显示器、低压压敏器、气敏传感器、航天器的抗反射涂层及红外发射调节等领域有着广阔的应用前景。

4.除此之外，三氧化钨在太阳能电池、电化学、光致发光、场发射等其他领域也有着广泛应用。

三氧化钨靶材

三氧化钨颗粒

三氧化钨粉末