前言
据中国海关总署12月10日公布的数据显示，中国芯片出口在今年前11个月已突破万亿元大关，标志着我国在“中美半导体之争”中取得了阶段性胜利。
然而作为半导体“心脏”的关键材料光刻胶，却长期被日本企业所垄断，特别是在高端光刻胶领域，日本的市场占有率更是高达90%以上，形成了绝对的市场壁垒。
那么如果日本真的断供了，中国半导体产业会崩溃吗？日本光刻胶的市场霸主地位，真的牢不可破吗？
光刻胶：半导体的心脏
光刻胶，听起来有些陌生，但在半导体制造领域却是不可或缺的重要角色，它其实是一种非常精密的化学材料，就像是一种高科技的涂料，被广泛应用于半导体芯片的制造过程中。
在制造芯片时，人们会在芯片表面涂上一层薄薄的光刻胶，然后通过特殊的光照和化学反应，精确地在芯片上刻画出微小的电路图案，这些图案极其精细，只有头发丝的几千分之一大小，但却承载着芯片的所有性能和功能。
因此，光刻胶的质量和精度对于半导体制造来说至关重要，它就像是半导体的“心脏”，为芯片提供了生命力和活力，是半导体产业不可或缺的关键材料。
没有光刻胶，就无法制造出高性能的半导体芯片，也就无法推动整个半导体产业的进步和发展，中国对光刻胶的需求可谓是非常巨大，从近日中国海关总署公布的一项数据中，我们便能深刻感受到这一需求的紧迫性和重要性。
仅仅在今年前11个月的时间里，中国的芯片出口总额就已经攀升至1.03万亿元的高位，成功跨越了万亿元这一历史性大关。
在这场持续多年、竞争激烈的“中美半导体之争”中，中国凭借着自身的不懈努力和创新突破，已经率先在多个领域取得了阶段性的胜利。
然而尽管我们在“中美半导体之争”中取得了不少阶段性的胜利，但在光刻胶这一半导体制造的“心脏”环节上，我们却长期受制于日本企业的垄断，这无疑给中国半导体产业的进一步发展带来了不小的挑战。
日本的光刻胶市场
早在半导体技术开始崭露头角的时候，日本企业就敏锐地察觉到了光刻胶这一关键材料的重要性，并迅速投入了大量的研发资源和精力。
起初，日本的光刻胶技术并不占优势，但通过不断的学习、引进和消化国际先进技术，再结合本土的创新能力和工艺水平，日本企业逐渐在光刻胶领域崭露头角。
根据9月11日日经中文网的报道，一项关于2023年“主要商品和服务市场份额”的调查显示，在新增的“半导体材料”品类中，日本企业在多个关键领域都拔得头筹。
特别是在光刻胶领域，东京应化工业以22.8%的市场份额高居全球第一，这得益于他们在汽车用传统产品上的出色表现，以及在新兴的极紫外（EUV）光刻胶技术上的突出贡献。
东京应化甚至将2030财年的销售额目标大幅提升到了3500亿日元，这足以看出他们对未来发展的信心和决心。
目前，除了美国杜邦以13.2%的份额排在第四位之外，光刻胶市场的其余份额几乎都被日本企业所垄断，前几大日本企业的合计份额更是高达75.9%。
然而日本在光刻胶领域的垄断地位也带来了一些问题，他们有时会利用这种地位来施加影响，比如2019年对韩国实施的半导体工业材料审查管控，其中就包括光刻胶。
这一举措导致韩国三星等企业的芯片良率迅速下降，给韩国半导体产业带来了不小的冲击，虽然随着日韩关系的缓和，日本恢复了对韩供应光刻胶，但这一事件仍然给全球半导体产业链带来了不小的震动。
更为严重的是，日本还配合美国的“实体清单”限制要求，对中国某企业断供光刻胶，这明显是美日韩联手打压中国芯片行业的行为，给中国半导体产业的发展带来了不小的挑战。
其实从2021年开始，就不断有消息称日本要对中国断供光刻胶，要么是因为自身产能不足，要么是配合美国的措施，总之，日本把光刻胶当成了悬在中国芯片产业头上的达摩克利斯之剑，时不时就挥舞两下。
光刻胶的保存也是一个难题，由于其对环境条件要求极高，一般有效期仅有半年左右，因此，即便是想“囤货”以备不时之需，也几乎是不可能的。
这进一步加剧了光刻胶市场的紧张局势，使得企业在面对供应短缺时更加束手无策，那么中国的光刻胶发展的又如何了呢，能否解决这一问题呢？
国产光刻胶
自20世纪70年代起，我国便踏上了光刻胶研究的征途，那时我们与国际先进水平的差距并不显著，与日本几乎是并驾齐驱，共同站在了半导体材料研究的起跑线上。
然而由于技术封锁、研发投入有限、产业链配套不完善等多重因素的制约，我国光刻胶产业的发展步伐逐渐放缓，与国际领先水平的差距逐渐拉大。
但历史的车轮总是滚滚向前，不会因一时的挫折而停滞，近年来，随着全球半导体产业的蓬勃发展，特别是中国半导体市场的迅速崛起，光刻胶及其配套试剂的需求呈现出井喷式增长。
在这一背景下，我国光刻胶产业迎来了前所未有的发展机遇，众多企业和科研机构纷纷加大研发投入，力求在半导体光刻胶领域实现突破。
经过不懈努力，我国光刻胶产业终于迎来了曙光，特别是武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品。
这款光刻胶产品不仅通过了半导体工艺的量产验证，实现了配方全自主设计，还在极限分辨率、工艺宽容度和稳定性等方面表现出色，成功对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列，为我国半导体光刻制造领域注入了新的活力。
与此同时，雅克科技等国内企业也在光刻胶领域取得了不俗的成绩，他们通过自主研发和引进消化吸收再创新的方式，成功推出了多款高分辨率的光刻胶产品，并陆续通过了客户认证，部分产品甚至已经开始形成销售。
这些成果的取得，不仅提升了我国光刻胶产业的整体实力，也为我国半导体产业的发展提供了有力支撑，当然由于光刻胶是半导体制造的关键材料之一，原料和配方高度保密，国外企业长期占据市场主导地位。
因此，我国在光刻胶领域的发展仍然面临着诸多挑战和困难，但正是这些挑战和困难，激发了我国企业和科研人员的创新精神和奋斗热情，他们不断攻克技术难关，优化生产工艺，提升产品质量，逐步缩小了与国际先进水平的差距。
展望未来，随着全球半导体制程向着更先进、更精细化方向发展，光刻胶的需求将持续增长，而我国作为全球最大的半导体市场之一，光刻胶产业的发展前景更是不可限量。
预计在未来几年内，我国光刻胶市场规模将持续扩大，年均复合增长率将保持在较高水平，这将为我国光刻胶产业的发展提供广阔的市场空间和强劲的发展动力。
