中国国产光刻机正式官宣， 美国梦被彻底“打醒”，情急之下，白宫怒砸30亿美元誓要在新能源领域给中国一点颜色看看。

那么，美国最终是否能得逞呢？而我国自主研发的光刻机和荷兰ASML（阿斯麦）相比又如何呢？

就在前段时间，美国智库在一项为期20个月、对中国半导体、量子计算等10个先进技术领域进行调查中发现，中国有2两个领域已经处于世界前沿，还有4个也与全球顶尖水平持平，剩余四个则稍微落后。

虽然没有做到全部领先，但其发展速度已经令美国不少官员感到不可思议，报告最后也表明，按照如此趋势，中国可能在10年左右的时间内赶上或超过美国及其他西方发达国家。

对此，美国信息技术与创新基金会主席阿特金森也表示：美国该醒醒了，时代已经变了。

而阿特金森这番话也不是空穴来风，就拿芯片制造领域来说，即使在面对美国等一众西方国家的“围剿”之下，我国仍然自主研发出首台DUV光刻机，令荷兰ASML都直呼不可能。

工信部最新发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，赫然出现了氟化氩光刻机的身影，这也就意味着国产光刻机历史上的首台DUV光刻机已经出现。

该目录一经公布，瞬间引起国际社会沸腾，要知道，长期以来，中国芯片制造设备严重依赖进口，尤其是在代表着芯片制造最尖端技术的EUV光刻机领域，更是受制于人。

而以美国为首的西方国家正是抓住了这一点，试图通过技术封锁来遏制中国芯片产业发展，就在前段时间，光刻机巨头ASML官方发布声明，表示此后的光刻机出口需要向荷兰政府申请出口证才能发运。

也就是说，想要从荷兰购买光刻机，企业答应都不行，必须得政府点头才行，而这显然又是美国在后面作祟，其目的就是想要控制以及垄断芯片行业的发展，但我国此次首台DUV光刻机的出现，彻底击碎了美国的美梦。

要知道，目前全世界能自主研发光刻机设备的企业主要有四家，分别是荷兰的ASML、日本的尼康和佳能以及中国的上海微电子。

而此前我国上海微电子所研发的最高性能的光刻机，其制程也不过是90nm（纳米）。但从此次工信部公布的资料来看，我国首台DUV光刻机已经能够量产28nm工艺的芯片。

虽然相比ASML的7纳米工艺还有着不小的差距，但这样的突破就是给了那些一心想要阻碍中国发展的国家一记响亮耳光，也彻底宣告美国在芯片领域对中国的围剿失败。

美国也开始意识到，中国人的智慧是难以估量的，从原子弹到5G通信再到如今的光刻机，屡次围堵却屡次失败，照这样的速度发展下去，不排除光刻机在日后也像此前的5G一样，彻底打上“中国制造”的标签。

对于中国首台DUV光刻机的出现，荷兰ASML虽然口头上多次直呼“震惊”、“不可能”，但根据业内人士表示，ASML内部并没有多大触动，因为凭借目前这台28nm工艺的光刻机，还不能从根本上触动ASML的核心利益，就目前来看，ASML在高端光刻机市场仍然是无可替代。

但随着28nm以上制程的成熟芯片的逐渐全流程国产化，我国日后在中低端芯片上将终于实现“芯片”自由，不再受限于他人。

而从目前来看，28nm工艺对我国大部分半导体产业其实是够用的，所以我们现在要做的不是想着如何赶超荷兰ASML，而是稳扎稳打，从28nm开始，慢慢向7nm过渡。我们根本不用着急，因为荷兰已经开始急了。

要知道，ASML作为一家企业，其目的就是为了挣钱，根本不想掺和任何政治因素在里面，但美国在背后不断施压，最后也只能进行妥协，毕竟一家企业赚钱再多也无法和权力抗衡。

之所以着急也是因为在半导体行业里，中国一直都是ASML最大的“金主”，也是最大的增量市场，仅是上半年，中国市场的进货量就占据了全球半导体设备出货的一半，其涉及金额高达268亿美元。

而如今突然被限制在这个市场交易，那就相当于放弃这个香饽饽，其损失无疑是惨痛的，因为根本没有其他地方能够代替中国市场，所以可想而知荷兰ASML有多着急。

与此同时，美国那边也开始行动了。据美国能源部9月20日宣布，将向本土的25个电池项目拨款超过30亿美元，以推动美国电动汽车的生产和销售。

联想到此前美国此前对中国电动汽车加征100%关税以及美国商务部提议禁止美国道路上行驶汽车使用中国的软件和硬件，美国在这个节点上大力支持本土新能源厂商，不排除就是为了将中国新能源品牌彻底“赶出”美国市场。

但这笔钱砸进去有没有效果，那还是市场说了算，如今美国的情况就是放着中国物美价廉的新能源不用，非要自己去捣鼓又贵又不好用的玩意，所以最终百姓买不买单还是个问号。

总之，如今的中国早已是今时不同往日，倘若美国依旧执意阻碍中国的发展，那最后只能是自食恶果。