2023年12月，荷兰阿斯麦ASML的第一台2nm光刻机交付给了英特尔Intel。
这是全球首台高数值孔径（High-NA）的光刻机，主要技术革新在于实现了更大的数值孔径。
所谓数值孔径，指的是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围。
通过增大数值孔径，可以实现更小的分辨率和更高的分辨能力，从而满足微细加工的要求。
简单来说，数值孔径越大则分辨率越佳。
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据悉，这台光刻机采用蔡司生产的0.55 NA 的镜头，能够实现8nm级别的分辨率，而标准EUV 使用0.33 NA 的镜头，实现分辨率水平为13nm。
这么说吧，谁家要是拥有它，那么制造2nm及以下节点芯片，是丝毫没有任何压力。
